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山東東達(dá)集團(tuán) 網(wǎng)站首頁 >> IGBT 的基本結(jié)構(gòu)與工作原理
IGBT 是一個(gè)三端器件,具有柵極G 、集電極C 和發(fā)射極E , 目前多數(shù)的IGBT 為N 溝道型。
IGBT 是由雙極型晶體管與MOSFET 組成的達(dá)林頓結(jié)構(gòu),相當(dāng)于一個(gè)由MOSFET 驅(qū)動(dòng)的厚基區(qū)PNP 晶體管,圖中的Rdr 是晶體管基區(qū)內(nèi)的調(diào)制電阻。IGBT 是一種場(chǎng)控器件,其開通與關(guān)斷是由柵極和發(fā)射極間的電壓uGE 決定的,當(dāng)uGE 為正且大于開啟電壓uGE ( th )時(shí),MOSFET 內(nèi)形成溝道,并為晶體管提供基極電流,進(jìn)而使IGBT 導(dǎo)通。當(dāng)uGE施加反向電壓或不加電壓時(shí),MOSFET 內(nèi)溝道消失,晶體管的基極電流被切斷,使得IGBT 關(guān)斷。
由于制作工藝不同,常導(dǎo)致器件具有不同的性能。按照IG - BT 器件C 、E 間擊穿時(shí)PN 結(jié)耗盡層是否穿透高阻N-基區(qū)層為判斷依據(jù),可將IGBT 分為兩大類:耗盡層穿透高阻N-基區(qū)的稱為穿通型(Punch Through , PT ) IGBT ;沒有穿透高阻N-基區(qū)的稱為非穿通型(Non Punch Through , NPT ) IGBT 。PT-IGBT 采用外延法工藝,在制造更高電壓的器件時(shí),其技術(shù)復(fù)雜、成本非常高;NPT-IGBT 采用同質(zhì)單晶硅和擴(kuò)散工藝,可以制造出更高開關(guān)速度、低拖尾電流、正溫度系數(shù),且有更高抗電熱沖擊能力的IGBT 。目前西門子、東芝、IR 、富士、摩托羅拉等公司已推出用NPT 工藝制造的IGBT 。
IGBT 模塊常用的電路結(jié)構(gòu)有多種,在高壓變頻器中用得最多的為二合一封裝或單一模塊封裝。
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